物品中的MEMS传感器8大工艺难题揭秘不同类型传感器的制造挑战

物品中的MEMS传感器8大工艺难题揭秘不同类型传感器的制造挑战

导语:MENS技术是传感器的核心关键技术之一,也是其未来发展最重要的方向之一。然而,能够设计和生产MEMS传感器的厂家数量极少,这种难题为什么会存在?如果您致力于学术研究,那么在MEMS传感器研发领域将是一段充满挑战和机遇的旅程。但这条道路并不平坦,您可能会花费数周、数月乃至数年的时间才能得到几片可用的晶圆。

您可能会问自己:怎样才能提高MEMS传感器工艺研发效率呢?我建议仔细检查每一个工艺步骤。这听起来简单,但往往被忽视。在某些情况下,即使结构全部错误也继续处理晶圆。同样,您可能认为已经制造出能工作的器件,但经过切割、胶合、键合后,却发现没有一个芯片能正常工作。

在光学显微镜下,许多制造步骤都可以简单地被观察,但通常需要几分钟来帮助确定MEMS传感器制造问题。然而,最难的问题是不在镜头之内。以下列举的是光学显微镜以外的八大问题,以及针对每个问题给出的检查方法。

不精确的MEMS传感器结构层厚

许多工艺方法依赖沉积材料构建机械结构或电子元件,而光学显微镜看不到材料层厚度,对性能影响很大。

常见检查方法/设备:

轮廓仪

椭圆仪

切割晶圆,通过扫描电子显微镜观察(破坏性测试)

基于探针的微机械测试

边墙形貌不佳

微结构边墙对性能影响很大,但通过光学显微镜看到边墙不是很好。

常见检查方法/设备:

切割晶圆,通过扫描电子显微镜观察(破坏性测试)

基于探针的微机械测试

粘附力问题

内部粘结层非常小,虽然有分层迹象但无法直接观察。

常见检查方法/设备:

声学显微镜

基于探针的 微机械测试(破坏性的)

内应力和应力梯度

内部应力导致了淀积膜分层和开裂。

常见检查方法/设备:

光学晶圆曲面测量

结合显示或白光干涉测厚仪检测晶圆结构,

基于探针进行 微机械 测试

裂纹问题

裂纹通常可以在显示下看到,但是由于分辨率局限,不可见细小裂缝。

常见检验法与装备:

探针台电性试验

声音顯示鏡

基於探針進行機械測試

失败释放工艺

释放失败时,要找到释放成功但锚点未释放的大部分区域。

常見檢驗法與裝備:

单芯片器件層或結構試驗(損壞性測試)(Break-off device layer of a single chip or a test structure)

基於探針進行機械測試

粘滞作用

悬臂梁等機械結構因與基板粘連而失效,如果距離太小則無法觀察到曲率變化。

要選擇良好的芯片,在封裝測試時才會發現問題。

檢驗方式:

探針台電性測試(如電容傳感器)

機械掃描儀表

不精確材料特性

新型薄膜材料展現巨大的潛力但其特性對應不同工藝參數敏感,不精確特性將降低性能甚至導致失效。

综上所述,每一步都是寻找解决方案的一环,只有不断努力,我们才能克服这些困难,并推动MEMS传感器技术向前发展,为物品带来更加智能化、高效率、多功能化的人机交互体验。如果你想了解更多关于如何提高 MEMS 工业生产质量,请继续关注我们的文章系列!